簡述鍍鉻工藝的要求

2021-04-22 17:13:43 951

  鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻鹽,而是鉻酸的氧化酸,是一種強酸。在電鍍過程中,整個過程比較複雜,大部分電流消耗在析氫和六價鉻還原為三價鉻兩個副反應中,因此鍍鉻的電流效率很低。電流效率随鉻酐濃度的增加而降低,L随溫度的升高而降低,随電流密度的增加而變化。

  在相關溶液中,需要加入一定量的陰離子,如SO42-、SiF62-酮、F-酮等,才能實現金屬鉻的正常沉積。溶液的分散性很低。對于形狀複雜的零件,需要使用圖形或輔助工具來獲得均勻的鍍鉻層。對吊具也有更嚴格的要求。

  這一工藝要求使用更高的電流密度,一般在20A/dm2以上,比普通電鍍高出10倍以上。由于釋放出大量氣體,鍍液電阻大,槽内壓力增加,要求鍍功率高。需要大于L2V的電源,而其他電鍍類型可以使用小于8V的電源。

  過程中不使用金屬鉻,但使用不溶性鉻。鉛銻合金通常是鉛銻合金。鍍液中由于沉積或其他原因而消耗的鉻需要通過添加鉻酸酐來補充。

  鍍鉻的工作溫度與電流密度有一定的關系。通過改變兩者之間的關系,可以得到性能不同的表面層。


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