鍍鉻工藝加工的說明

　　鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻鹽，而是鉻酸的氧化酸，是一種強酸性鍍液。在電鍍過程中，整個過程比較複雜，大部分電流消耗在析氫和六價鉻還原為三價鉻的兩個副反應中，因此鍍鉻的電流效率很低。電流效率随鉻酐濃度的增加而降低，L随溫度的升高而降低，随電流密度的增加而變化。

　　在相關溶液中，需要加入一定量的陰離子，如SO42-、SiF62-酮、F-酮等，才能實現金屬鉻的正常沉積。溶液的分散性很低。對于形狀複雜的零件，需要使用象形或輔助來獲得均勻的鍍鉻層。對吊具也有更嚴格的要求。

　　這一工藝要求使用更高的電流密度，通常在20A/dm2以上，比普通電鍍高出10倍以上。由于釋放大量氣體，鍍液電阻大，槽壓升高，對電鍍功率要求高。需要大于L2V的電源，而其他電鍍類型可以使用小于8V的電源。

　　過程中不使用金屬鉻，但使用不溶性的。鉛銻合金通常是鉛銻合金。鍍液中由于沉積或其他原因而消耗的鉻需要通過添加鉻酸酐來補充。

　　鍍鉻工作溫度與電流密度有一定關系。通過改變兩者之間的關系，可以得到不同性能的鉻鍍層。